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更新時間:2026-01-22
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在環(huán)境監(jiān)測、食品安全、藥物研發(fā)等領域,氣相色譜儀(GC)、常壓離子質譜儀(APIMS)等分析儀器是獲取關鍵數(shù)據(jù)的核心工具。然而,載氣中微量的氧氣(O?)、水分(H?O)、二氧化碳(CO?)等雜質,會干擾檢測器信號、降低色譜柱壽命,甚至導致數(shù)據(jù)失真。美國VICI公司憑借其氣體純化技術,通過高效去除載氣中的痕量雜質,將氣體純度從99.995%提升至99.9999%以上(色譜純),為高精度分析提供了可靠保障
鄭州云湛科技儀器現(xiàn)貨進口Valco氦氣純化器(HP2)可以隨時提供氦氣及其它惰性氣體的純化氣體,例如可以將Ne、Ar、Kr和Xe中的ppm級以下的不純氣體純化。氮氣純化器(NP2)同樣地作用于氮氣
鄭州云湛科技儀器現(xiàn)貨進口Valco氦氣純化器(HP2)可以隨時提供氦氣及其它惰性氣體的純化氣體,例如可以將Ne、Ar、Kr和Xe中的ppm級以下的不純氣體純化。氮氣純化器(NP2)同樣地作用于氮氣
Valco氣體純化器的純化基質是一種無揮發(fā)性、有加熱活化的吸附性合金,此穩(wěn)定的合金包含在焊接組件中,所以可以安全簡單地使用。吸附劑粒子表面有一層氧化膜需通過加熱活化,活化過程必須在真空或惰性氣體環(huán)境下完成,這樣可允許氦氣在其間自由擴散,防止氧氣鈍化層的形成。氦氣和氮氣純化器有一自動調(diào)控的特征設計,它保持吸附劑材料于溫度,消除了熱量流失的可能性
* 可純化氣體:He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn
* 操作壓強:1000 psig
* 可去除雜質:出口雜質低于10ppb H2O、H2、O2、N2、NO、NH3、CO、CO2和CH4,此基于10ppm入口雜質總量,其它去除雜質包括CF4、CCl4、SiH4 和輕質烴。
* 未被去除雜質:He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn
氮氣純化器
* 可純化氣體:只有N2
* 操作壓強:1000 psig
* 可去除雜質:出口雜質低于10ppb H2O、H2、O2、NO、NH3、CO、CO2和CH4,此基于10ppm入口雜質總量,其它去除雜質包括CF4、CCl4、SiH4 和輕質烴。
* 未被去除雜質:He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn、N2


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